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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
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VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪
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VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪
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双靶磁控溅射仪--VTC-600-2HD
VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜
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VTC-600G高真空磁控溅射仪
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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
管(Φ6mm)7、靶材(不锈钢靶、陶瓷靶)可选配件金、铟、银、白金等各种靶材 VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是zei新研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
SCCM VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
SCCM VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯
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